光刻工藝對光刻版的質(zhì)量要求
出處:nnhfy 發(fā)布于:2007-04-29 10:14:48
1 版的圖形尺寸
2 版的套準誤差小
3 版的黑白反差高
4 圖形邊緣光滑陡直無毛刺、過渡區(qū)小
4.1 過渡區(qū)定義和特點
4.2 過渡區(qū)產(chǎn)生的原因
4.3 過渡區(qū)造成的影響
5 版面光潔無針孔、小島及劃痕
5.1 版面缺陷
5.2 版面缺陷的影響
6 版面耐磨、堅固、不變形
課程重點:本節(jié)前介紹了光刻版的質(zhì)量在器件制造中的作用,指出:對簡單的三極管制造至少需要四塊光刻版,而常規(guī)集成電路制造至少需要六塊光刻版;每一塊光刻版的質(zhì)量均對器件制造成品率有著很大的影響,而整套光刻版對器件制造成品率的綜合影響,是每一塊光刻版對器件制造成品率影響的“與”關(guān)系。本節(jié)介紹了光刻工藝對光刻版的質(zhì)量要求。光刻工藝對光刻版的質(zhì)量六條要求之間也是“與”關(guān)系。
課程難點:光刻版的缺陷造成的器件的光刻成品率的含義及其關(guān)系式,整套光刻版對器件制造成的光刻成品率的綜合影響。要求器件的圖形質(zhì)量與 光刻版圖形質(zhì)量的關(guān)系;光刻套合與光刻版套合的關(guān)系;版的黑白反差的定義、含義及其要求;光刻版圖形的過渡區(qū)定義和特點、過渡區(qū)產(chǎn)生的原因、過渡區(qū)對器件制造造成的影響;光刻版圖形的缺陷有哪一些,它們對器件制造造成的影響。
基本概念:
1 版的黑白反差-指版上的黑區(qū)與白區(qū)的光密度差。
2 版的過渡區(qū)-指版上的圖形由充分黑到充分白或由充分白到充分黑的過渡寬度。
3 版面針孔-指版面黑區(qū)上的一微米以上的白點。
4 版面小島-指版面白區(qū)上的一微米以上的黑點。
5 版面劃痕-指版面黑區(qū)上的嚴重的白色劃道或挫傷。
基本要求:要求清楚光刻版上的的缺陷如何造成了器件的光刻成品率的降低,知道光刻成品率與每一塊光刻版缺陷密度的關(guān)系式,若干次光刻總成品率與整套光刻版的每一塊光刻版缺陷密度的綜合關(guān)系式。能夠知道器件的圖形質(zhì)量參數(shù)一定,則應對光刻版圖形質(zhì)量提出什么要求。能清楚的知道光刻套合與光刻版套合的關(guān)系;知道版的黑白反差的定義、含義及其要求;知道光刻版圖形的過渡區(qū)定義和特點、過渡區(qū)產(chǎn)生的原因、過渡區(qū)對器件制造造成的影響;知道光刻版圖形的缺陷種類,了解它們對器件制造造成的影響。
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