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光刻底版及其制備

出處:小李志 發(fā)布于:2007-04-29 10:14:48

課程內(nèi)容:

1 超微粒干版(乳膠版)

1.1 乳膠的成分與作用

1.1.1 乳化劑的成分與作用

1.1.2 分散介質(zhì)的成分與作用

1.1.3 輔助劑的成分與作用

1.2 超微粒干版的制備工藝

1.2.1 制備工藝流程

1.2.2 工藝流程中的幾點(diǎn)說明

2 鉻版制備與復(fù)印

2.1 鉻版的制備

2.1.1 蒸發(fā)制備鉻版的條件

2.1.2 蒸發(fā)制備鉻版的要求

2.2 鉻版的復(fù)印

2.2.1 復(fù)印前的準(zhǔn)備工作

2.2.2 復(fù)印工藝

2.3 鉻版的優(yōu)點(diǎn)

2.3.1 使用壽命長

2.3.2 分辨率大、反差大

2.3.3 化學(xué)穩(wěn)定性好

3 氧化鐵版的制備與復(fù)印

3.1 氧化鐵版的優(yōu)點(diǎn)

3.1.1 生產(chǎn)設(shè)備簡單、操作方便

3.1.2 具有更高的分辨率

3.1.3 膜的結(jié)構(gòu)比鉻版更致密

3.1.4 耐磨性更強(qiáng)

3.1.5 可見光范圍透明、紫外光范圍不透明

3.1.6 為自動(dòng)制版提供了途徑

3.2 氧化鐵版的制備

3.2.1 化學(xué)氣相淀積法

3.2.2 涂敷分解淀積法

3.3 氧化鐵版的復(fù)印

課程重點(diǎn):本節(jié)介紹了用于制版工藝的三種光刻底版的定義和具體的內(nèi)容。關(guān)于超微粒干版的構(gòu)成指出:是由玻璃基片加乳膠涂敷構(gòu)成的;介紹了構(gòu)成的乳膠成分與作用,其中介紹了乳化劑的成分與作用,指出:乳化劑是由硝酸銀和鹵化物組成、常用的鹵化物是溴化鉀,而其作用是作為感光后發(fā)生光化反應(yīng)的主體存在;介紹了分散介質(zhì)的成分與作用,指出:分散介質(zhì)是由明膠構(gòu)成的,而其作用是在超微粒干版的制造過程中和制造完成后始終起到分散、均勻乳化劑的作用;介紹了輔助劑的成分與作用,指出:輔助劑是為改進(jìn)超微粒干版性能而引入的,根據(jù)要求改進(jìn)超微粒干版的性能不同分為多種,諸如增感劑、防灰霧劑、堅(jiān)膜劑等等,不同成分則作用不同。關(guān)于超微粒干版的制備工藝,給出了制備工藝流程并對制備工藝流程中的幾個(gè)重要部分給出了說明,諸如玻璃基片選擇的重要性、如何防止鹵化銀顆粒長大、有關(guān)流程中的兩次冷凍工藝、切條水洗的作用以及抽濾的作用等。本節(jié)介紹了鉻版制備與復(fù)印;對于鉻版的制備,指出是由玻璃基片加鉻膜構(gòu)成的,而鉻膜制備通常是由蒸發(fā)工藝完成的,討論了蒸發(fā)制備鉻版的條件(諸如鉻源的純度要求、蒸發(fā)時(shí)真空度要求、蒸發(fā)時(shí)玻璃基片要求),討論了蒸發(fā)制備的鉻版的要求;對于鉻版的復(fù)印,介紹了復(fù)印前的準(zhǔn)備工作(劃版、鉻版的凈化處理、烘干處理等),討論了鉻版復(fù)印的工藝流程(涂膠、前烘、光、顯影、堅(jiān)膜、腐蝕、去膠類似于光刻的工藝流程,只是光是在復(fù)印機(jī)上完成的);對于為什么采用鉻版作為生產(chǎn)版,給出了鉻版的兩條優(yōu)點(diǎn)。本節(jié)介紹了氧化鐵版的制備與復(fù)印,首先介紹了氧化鐵版的優(yōu)點(diǎn),給出了諸如生產(chǎn)設(shè)備簡單操作方便、具有更高的分辨率、膜的結(jié)構(gòu)比鉻版更致密、耐磨性更強(qiáng)、可見光范圍透明而紫外光范圍不透明、為自動(dòng)制版提供了途徑六條優(yōu)點(diǎn),其中具有更高的分辨率、可見光范圍透明而紫外光范圍不透明、為自動(dòng)制版提供了途徑等優(yōu)點(diǎn)為其在大規(guī)模集成電路制造中的應(yīng)用奠定了基礎(chǔ);介紹了氧化鐵版的制備工藝,在可用的幾種方法中,討論了常用的化學(xué)氣相淀積法和涂敷分解淀積法制備氧化鐵版的工藝;討論了氧化鐵版的復(fù)印,指出:除其腐蝕方法不同于鉻版復(fù)印外,工藝過程與鉻版復(fù)印完全相同。

課程難點(diǎn): 用于制版工藝的三種光刻底版的定義、區(qū)別及其對于各自應(yīng)用于制版工藝的特殊意義。超微粒干版的構(gòu)成;構(gòu)成超微粒干版中乳膠的各種成分;乳化劑在乳膠中起什么作用,乳化劑的成分構(gòu)成,各種成分在乳化劑中各起什么作用,作用原理是什么;分散介質(zhì)在乳膠中起什么作用,分散介質(zhì)的成分構(gòu)成,明膠在乳膠中如何在超微粒干版的制造過程中和制造完成后始終起到分散、均勻乳化劑的作用的,作用原理是什么;輔助劑在乳膠中起什么作用,輔助劑的構(gòu)成與超微粒干版的待改善性能的關(guān)系如何,其中增感劑的成分、作用及作用原理、防灰霧劑的成分、作用及作用原理、堅(jiān)膜劑的成分、作用及作用原理以及需提高分辨率時(shí)可加入的輔助劑; 超微粒干版的制備工藝流程,工藝流程中各步驟的作用, 各步驟的作用原理。鉻版的構(gòu)成,構(gòu)成 鉻版的鉻膜的制備工藝、制備工藝條件及其對制備出的鉻膜的質(zhì)量要求;有關(guān)鉻版的復(fù)印工藝及要求。氧化鐵版的優(yōu)點(diǎn)、哪些優(yōu)點(diǎn)使其在大規(guī)模集成電路制造中得到良好的應(yīng)用,氧化鐵版的構(gòu)成,構(gòu)成氧化鐵版的三氧化二鐵膜的各種制備工藝、常用的不同制備工藝條件及其對制備出的三氧化二鐵膜的質(zhì)量要求;有關(guān)氧化鐵版的復(fù)印工藝及要求。


基本概念:

1 超微粒干版-由乳化劑、分散介質(zhì)和輔助劑構(gòu)成的乳膠涂布而成的感光性底版。其主要成分為明膠,則也稱為明膠版。

2 鉻版-由鉻金屬膜構(gòu)成的非感光性底版。為金屬膜版。

3 氧化鐵版-由三氧化二鐵膜構(gòu)成的選擇性感光性底版。為金屬氧化物膜版。

4 明膠-天然高分子化合物,分子量在一萬到五萬之間,能溶于熱水,溶化后為呈一定粘度的膠體。

5劃版-按光刻版的大小要求劃開底版。

基本要求:要求清楚的知道用于制版工藝的三種光刻底版的定義、區(qū)別及其對于各自應(yīng)用于制版工藝的特殊意義。清楚知道超微粒干版的構(gòu)成,知道構(gòu)成超微粒干版中乳膠的各種成分。清楚知道乳化劑在乳膠中起什么作用,了解乳化劑的成分構(gòu)成,知道各種成分在乳化劑中各起什么作用,作用原理是什么。清楚知道分散介質(zhì)在乳膠中起什么作用,了解分散介質(zhì)的成分構(gòu)成,知道明膠在乳膠中如何起到在超微粒干版的制造過程中和制造完成后始終分散、均勻乳化劑的作用的,作用原理是什么。清楚知道輔助劑在乳膠中起什么作用,知道輔助劑的構(gòu)成與超微粒干版的待改善性能的有什么關(guān)系,知道其中增感劑的成分、作用及作用原理;知道防灰霧劑的成分、作用及作用原理;知道堅(jiān)膜劑的成分、作用及作用原理;以及知道需要提高分辨率時(shí)可加入什么輔助劑。清楚 超微粒干版的制備工藝流程,知道工藝流程中各步驟的作用以及各步驟的作用原理。了解鉻版是如何構(gòu)成的,知道構(gòu)成 鉻版的鉻膜的制備工藝、制備工藝條件及其對制備出的鉻膜的質(zhì)量要求。熟悉有關(guān)鉻版的復(fù)印工藝及復(fù)印工藝要求。清楚氧化鐵版的優(yōu)點(diǎn)、知道哪些優(yōu)點(diǎn)使其在大規(guī)模集成電路制造中得到了良好的應(yīng)用。知道氧化鐵版的構(gòu)成,了解生成構(gòu)成氧化鐵版的三氧化二鐵膜的各種制備工藝、知道常用的各種制備工藝、制備工藝條件及其對制備出的三氧化二鐵膜膜的質(zhì)量要求;清楚有關(guān)氧化鐵版的復(fù)印工藝及要求。

第六章 制版工藝與原理作業(yè)

思考題:3



  
關(guān)鍵詞:光刻底版及其制備

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