晶片刷洗器
出處:coldra 發(fā)布于:2007-04-29 10:15:49
刷洗器將晶片承載在一個(gè)旋轉(zhuǎn)的真空吸盤上(圖5.25)。在一般去離子水直接沖洗晶片表面的同時(shí),一個(gè)旋轉(zhuǎn)的刷子近距離地接觸旋轉(zhuǎn)的晶片。刷子和晶片旋轉(zhuǎn)的結(jié)合在晶片表面產(chǎn)生了高能量的清洗動(dòng)作。液體被迫進(jìn)入晶片表面和刷子末端之間極小的空間,從而達(dá)到很大的速度,以輔助清洗。必須注意的是,要保持刷子和清洗液道路的清潔以防止第二污染。另外,刷子到晶片的距離要保持一定以防止在晶片表面造成劃痕。
在去離子水中加入表面活性劑可以提高清洗的效果,同時(shí)防止靜電的形成。在某些應(yīng)用中,稀釋的NH4OH被用作清洗液以防止在刷子上形成顆粒,同時(shí)控制系統(tǒng)中的Z-電勢(shì)。31
刷洗器可以設(shè)計(jì)為有自動(dòng)上/下料功能的獨(dú)立的操作單位,也可以設(shè)計(jì)為其它設(shè)備的一部分,在工藝過(guò)程前自動(dòng)執(zhí)行對(duì)晶片的清洗。
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