KLA-Tencor, Inc.近日正式推出Archer 100光學(xué)疊對(duì)測(cè)量系統(tǒng)，這個(gè)45奈米的生產(chǎn)工具在設(shè)計(jì)上可明顯增加浸潤(rùn)式顯影與未來雙圖樣顯影技術(shù)的準(zhǔn)確性與生產(chǎn)能力。在市場(chǎng)居地位的Archer平臺(tái)已經(jīng)過全面性的重新設(shè)計(jì)，可解決先進(jìn)顯影的獨(dú)特挑戰(zhàn)，準(zhǔn)確度和TMU(總測(cè)量不確定度)的改善幅度超過30%以上，系統(tǒng)使用率提升多達(dá)20%，同時(shí)在MAM時(shí)間以及實(shí)際上所有其它關(guān)鍵規(guī)格上也有重大斬獲。 

　　KLA-Tencor Parametric Solutions Group集團(tuán)副總裁Joseph Laia提到：“Archer 100系統(tǒng)特別將目標(biāo)鎖定在解決顧客重要的疊對(duì)挑戰(zhàn)上，提供具有能力的技術(shù)平臺(tái)，可支持45奈米和以下的浸潤(rùn)式技術(shù)及新一代的雙重圖樣顯影?！?nbsp;

　　日益增加的圖樣密度加上193奈米的浸潤(rùn)顯影方法的結(jié)合，使得45奈米節(jié)點(diǎn)和以下的工藝在圖樣基礎(chǔ)的良率面臨到全新的挑戰(zhàn)。在浸潤(rùn)顯影中，獨(dú)特的效果需要全新的分析能力以及數(shù)量更多的取樣，以確保準(zhǔn)確的校準(zhǔn)以及偵測(cè)疊對(duì)錯(cuò)誤的來源。 

    Archer 100系統(tǒng)全新的μAIM(MicroAIM)目標(biāo)選項(xiàng)以嚴(yán)密地仿真疊對(duì)感光芯片結(jié)構(gòu)的方式，為疊對(duì)工具提供更多信息，但利用的仍然只有芯片上相同的小型區(qū)域而已。這個(gè)健全而耐用的目標(biāo)技術(shù)即使在面臨各種變化的曝光情況以及制程條件之下，仍能提供的穩(wěn)定性，因而能夠大幅增加可靠度。 

    透過全新的照明系統(tǒng)，Archer 100可有效地解決低對(duì)比測(cè)量(例如非晶碳硬罩薄膜)的問題，改善測(cè)量的準(zhǔn)確度以及45奈米和以下疊對(duì)預(yù)算的耐用性，獲得大量的記憶生產(chǎn)。使用典型生產(chǎn)取樣的系統(tǒng)產(chǎn)量每小時(shí)超過80晶圓，擁有高速的MAM時(shí)間，可促進(jìn)生產(chǎn)能力。與先前的Archer系統(tǒng)相比，整體的生產(chǎn)能力已增加了20%以上。 

    Archer 100疊對(duì)測(cè)量系統(tǒng)技術(shù)摘要： 

    重新設(shè)計(jì)的光這可提供更佳的步進(jìn)重復(fù)(site-by-site)比對(duì)；低相差的特性則可符合緊縮的45奈米疊對(duì)預(yù)算； 

    更嚴(yán)謹(jǐn)?shù)碾A段容差可提供更高的重復(fù)性； 

    新的成像系統(tǒng)具有低對(duì)比薄膜及低像素失真等特性，能夠改善訊噪比； 

    先進(jìn)的照明模式可降低工具位移變化的情況； 

    Archer 100平臺(tái)是專為可應(yīng)用于雙重圖樣顯影上的延遲升級(jí)所設(shè)計(jì)。 

    結(jié)合以上功能之后，TMU規(guī)格的改善幅度超過現(xiàn)在工具多達(dá)30%以上，達(dá)到1.4 nm TMU(總測(cè)量不確定度)。Archer 100系統(tǒng)的增強(qiáng)功能還可提供較短的MAM時(shí)間、加強(qiáng)的演算以及內(nèi)建的診斷功能，提供浸潤(rùn)式顯影與雙重圖樣顯影時(shí)所需的高階制程穩(wěn)定性與生產(chǎn)力。 

    光學(xué)設(shè)計(jì)的圖樣薄膜化：Archer 100全新的照明系統(tǒng)功能已經(jīng)過改良，能夠管理較低的對(duì)比測(cè)量，例如非晶碳硬罩。這個(gè)低對(duì)比層的測(cè)量功能可提供更高的準(zhǔn)確度與穩(wěn)定性，因此在掃描儀比對(duì)與顯影工藝控制上也有更佳的效果。 

    先進(jìn)的Archer Analyzer疊對(duì)分析軟件選項(xiàng)利用了先進(jìn)的算法與資料篩選功能，以便分析系統(tǒng)的工具結(jié)果，并實(shí)時(shí)決定提供晶圓片批是否符合先前決定的參數(shù)(例如疊對(duì)錯(cuò)誤預(yù)測(cè)(MEP))，并且提供重要的顯影單元校正。這個(gè)掃描儀校正資料讓顯影器能夠快速地滿足顯影工具效能的差異，將周期時(shí)間及良率減少的情況減至。 

    Archer 100系統(tǒng)的增強(qiáng)型Recipe Database Manager Plus(RDM+)讓操作人員可離線存取集中式數(shù)據(jù)庫，以利用先前獲得證明的配方組件，包括配方比較與配方驗(yàn)證功能。它還能夠降低設(shè)定時(shí)間，并且在大量制造的情況下仍然可以增加可靠度與配方成功率。 

    Archer 100系統(tǒng)的新功能之一為“自動(dòng)配方優(yōu)化(Automatic Recipe Optimization, ARO)”演算法，即使是經(jīng)驗(yàn)不多的操作人員，仍然可以輕易地在離線狀態(tài)下建立化的配方，釋放晶圓廠中極具價(jià)值的工程資源。ARO除了可免除人力的介入以外，并可將過去冗長(zhǎng)的配方設(shè)定時(shí)間縮短2倍到6倍，大幅節(jié)省時(shí)間使用工具的時(shí)間。基于以上因素，再加上系統(tǒng)其它的生產(chǎn)力提升，使得上一代平臺(tái)的整體使用率改善幅度達(dá)到20%以上。