覆蓋測量(overlay metrology)技術(shù)廠商KLA-Tencor近日宣稱推出一款45nm工具——Archer 100光覆蓋測量系統(tǒng)，設(shè)計用于顯著增強浸沒和未來雙成型(patterning)蝕刻技術(shù)的度和生產(chǎn)率。Archer平臺經(jīng)過廣泛的重新設(shè)計，提升度超過30%，系統(tǒng)使用率高達(dá)20%，在幾乎所有其它關(guān)鍵指標(biāo)上都有主要改進。 

　　KLA-Tencor參數(shù)化解決方案部副總裁Joseph Laia指出，“浸沒蝕刻大幅度改進了由于誤差覆蓋而引起的圖形良品率，Archer 100系統(tǒng)特別解決了客戶關(guān)鍵的覆蓋挑戰(zhàn)，提供了支持45nm及以下光刻的技術(shù)平臺。” 

　　在浸沒蝕刻方法中，獨特的效果需要新型的分析能力和更多采樣，來保證調(diào)整并檢測覆蓋誤差源。Archer 100系統(tǒng)的新型μAIM(MicroAIM)通過仿真覆蓋敏感的芯片結(jié)構(gòu)，仍使用芯片上同一塊小區(qū)域，為覆蓋工具提供了更多信息。這種技術(shù)使得在廣泛種類的曝光和工藝條件下穩(wěn)定性增強。 

    Archer 100有效解決了低對比度測量問題，新照明系統(tǒng)能改進45nm及以下大批量內(nèi)存制造的測量和可靠性。系統(tǒng)產(chǎn)量每小時超過80片晶圓。