KLA-Tencor近日宣稱推出Archer 100光覆蓋測量系統(tǒng)
出處:木頭東瓜 發(fā)布于:2007-11-30 15:06:54
KLA-Tencor參數(shù)化解決方案部副總裁Joseph Laia指出,“浸沒蝕刻大幅度改進了由于誤差覆蓋而引起的圖形良品率,Archer 100系統(tǒng)特別解決了客戶關(guān)鍵的覆蓋挑戰(zhàn),提供了支持45nm及以下光刻的技術(shù)平臺。”
在浸沒蝕刻方法中,獨特的效果需要新型的分析能力和更多采樣,來保證調(diào)整并檢測覆蓋誤差源。Archer 100系統(tǒng)的新型μAIM(MicroAIM)通過仿真覆蓋敏感的芯片結(jié)構(gòu),仍使用芯片上同一塊小區(qū)域,為覆蓋工具提供了更多信息。這種技術(shù)使得在廣泛種類的曝光和工藝條件下穩(wěn)定性增強。
Archer 100有效解決了低對比度測量問題,新照明系統(tǒng)能改進45nm及以下大批量內(nèi)存制造的測量和可靠性。系統(tǒng)產(chǎn)量每小時超過80片晶圓。
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