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在電工電子工業(yè)中應(yīng)用的氦質(zhì)譜檢漏儀及其輔助設(shè)備
氣檢漏裝置適用于工業(yè)領(lǐng)域高壓開關(guān)管、微波發(fā)射管等要求大批量、多品種、高靈敏度、快速檢漏產(chǎn)品的檢漏設(shè)備。該系統(tǒng)由檢漏儀和檢漏平臺(tái)兩部分組成，檢漏儀用于判斷工件是否泄漏；檢漏平臺(tái)對(duì)工件進(jìn)行真空預(yù)抽，檢漏平臺(tái)有左右兩組相互獨(dú)立的檢測(cè)工位，每組工位設(shè)置了1-3個(gè)檢測(cè)接口；一組工位抽真空的同時(shí)，另一組工位進(jìn)行檢測(cè)或裝卸工件，縮短了檢測(cè)周期，提高了工作效率。由可編程工業(yè)控制器（plc）對(duì)檢測(cè)全過程進(jìn)行自動(dòng)控制，保證了系統(tǒng)的穩(wěn)定性、可靠性，操作十分簡單，方便了使用者。主要技術(shù)指標(biāo)和參數(shù)：1．電源: 220v 12a2．真空度:5×10-3 pa·m3/s3．工作節(jié)拍空載:20s/拍4．啟動(dòng)時(shí)間:＜10min5．響應(yīng)時(shí)間: ＜5s6．壓縮空氣: 5～6kg7．環(huán)境溫度: 5～35℃8．空氣相對(duì)濕度: ＜80 9．工作環(huán)境附近無強(qiáng)磁場、無劇烈震動(dòng)、無腐蝕性氣體；室內(nèi)通良好，以避免氦氣干攏。參考文獻(xiàn)（1）半導(dǎo)體技術(shù) 1977-5p17（2）軍用電子元器件破壞性物理分析方法，國軍標(biāo)草稿1998年（3）關(guān)奎之等有關(guān)真空檢漏系統(tǒng)幾個(gè)參數(shù)的探討，真空 1985.2中川洋（日）防止泄漏的理論和實(shí)際應(yīng)用，p.1

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